中国真的造不出光刻机吗？ASML总裁：中国永远无法模仿EUV光刻机( 四 )_众所周知

目前，全球高端光刻机被ASML、尼康、佳能所垄断， 2018年全球高端光刻机总计出货374台，其中ASML的高端光刻机销售量120台， 10nm以下的EUV光刻机更是占据了全球100%的市场，甚至就连佳能、尼康几乎已经退出10nm以下光刻机的市场。但是中国芯片产业发展如火如荼，却没有高端光刻机的支持，这也是为什么中国芯片产业发展缓慢的原因之一。

但是2018年底中科院传来了好消息，中科院光电所研发成功了世界首台紫外超分辨率光刻机，该光刻机采用可通过多重曝光生产22nm芯片。特别值得一提的是，这台光刻机绕过了ASML等对国外光刻机高分辨率装备专利的技术壁垒，从光刻机原理上走出了一条具有自主知识产权的研发路线，为我国先进光刻机的发展打下了良好的技术基础。

虽然这台设备技术上前景很牛，通过多重曝光技术甚至可以生产10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必须要流程再造，但是有志者事竟成，毕竟商业化之路是很漫长的。尽管如此，这台光刻机的研发成功对我国光刻机进步的意义是不言而喻的，可以说是开辟了有别于国外光刻机的技术路径，实现了中国真正自主创新。