日美光刻机大战，这位中国人帮助ASML打败日本，垄断全球市场(14)_光刻指利用光化学反应原理把事先制备在

ASML成为了EUV的实践者，后来EUV LLC 组织解散， ASML还是坚持了EUV 的研发，而台积电、英特尔、三星每年也给予了ASML资金支持，并且最终证明了EUV光刻机的可行性，一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间，可以说是人类顶尖工业皇冠上的明珠。

要知道5nm光刻，是在比头发丝还细千倍的地方挑战激光波长和量子隧穿的极限。

而尼康，因为当时日本已经陷入了经济泡沫，半导体产业也被美国重创，日本政府也不敢再支持半导体企业进行研发，缺乏了有力支持的尼康，虽然有创新的想法，但是却缺少实践的魄力。

而且当时光刻机利润比较低，尼康的重视程度比较低，都是导致失败的原因。