日美光刻机大战，这位中国人帮助ASML打败日本，垄断全球市场(12)

2020-02-19

而林本坚的想法却非常非常简单，他发现157nm波长的光是无法通过水的。而如果193纳米光在水里折射之后，波长变成132nm ，比大家研究的157nm还要短，可以把解析度提高46% ，就直接跳过了现157nm波长。

所以他提出在晶圆光刻胶上方加 1mm 厚的水。水可以把 193nm 的光波长折射成 134nm ，这就是浸没式光刻机。

当时ASML采纳了林本坚的想法， ASML 在一年的时间内就开发出样机，充分证明了该方案的工程友好性。

随后，台积电也是第一家实现浸入式量产的公司，追上之前制程技术遥遥领先的英特尔，成为了晶圆代工市场的霸主。

而尼康在AMSL后脚宣布自己的 157nm 产品以及 EPL 产品样机完成。然而，浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，所以几乎没有人去订尼康的新品。尼康被迫随后也宣布去做浸入式光刻机。

Nikon的设计概念

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