ASML则已经有了成熟的产品，也已经和下游厂商过了磨合期，尼康的产品无人肯用，这也导致了一大批使用尼康产品的日本半导体厂商溃败，本来美国的半导体产业就已经被美国重创，如今更是凉凉。

尼康在 2000 年还是老大，但到了 2009 年 ASML 已经市占率近 7 成遥遥领先。可以说垄断了光刻机市场，到如今ASML在光刻机市场可以说一家独大，加上后来不断改进的高 NA 镜头、多光罩、FinFET、Pitch-split、波段灵敏的光刻胶等技术，浸入式 193nm 光刻机可以生产出7nm的芯片。

教训

在美国入股下的ASML在技术上具有前瞻性，而且也有敢于实验的魄力，帮助美国最终在光刻机大战中取得了胜利，在这其中，林本坚提出的方案可以说起到了不可替代的作用。

以如今最先的EUV光刻机为例，英特尔说服了美国政府，由英特尔和美国能源部牵头，集合了当时还如日中天的摩托罗拉以及 AMD ，以及享有盛誉的美国三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室，劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室，投资两亿美元集合几百位顶级科学家成立了 EUV LLC组织，从理论上验证 EUV 可能存在的技术问题。