日本加强对韩国半导体材料出口管控，是否会影响三星的5G布局？(11)_：日本加强对韩国半导体材料出口管控

半导体光刻胶中，G 线和 I 线光刻胶是目前市场上使用量最大的光刻胶，但二者对应的半导体制程节点均为早期，所占市场份额较低；KrF、ArF 光刻胶对应的制程节点先进，共计占有约 63%市场份额。

据悉，日本限制出口韩国的三种材料分别是用于电视和智能手机面板上使用的氟聚酰亚胺、半导体制作过程中的核心材料光刻胶和高纯度半导体用氟化氢。日本占全球氟聚酰亚胺和光刻胶总产量的90%，全球半导体企业70%的氟化氢需从日本进口。因此，一旦韩国半导体企业和面板企业相关材料存货耗尽，短期内又无法找到替代品，将对三星、LG等公司将造成不小冲击。

日对韩实施出口管制或影响三星手机出货量

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应，经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，从而使光刻胶的溶解度发生变化。