日本加强对韩国半导体材料出口管控，是否会影响三星的5G布局？( 九 )

2019-07-31

电子材料中的光刻胶及其辅助化学品，全球主要供应商中多为日本、美国企业。

光刻胶用于微小图形的加工，包括分辨率、对比度、敏感度述形成的关键尺寸；对比度描刻胶上产生一个良好的图形所成了光刻胶的技术壁垒。

由于光刻胶技术含量高且处于产业链上游，其质量直接影响下游产品的质量，因此下游企业对光刻胶供货企业的质量及供货能力非常重视，通常采取认证采购的商业模式。伴随着高的采购成本与认证成本，光刻胶生产厂家与下游企业通常会形成较为稳定的合作，这对新供应商涉足光刻胶行业设置了准入壁垒。

光刻胶研发需要有配套的光刻机、掩膜板及其他工艺，资金壁垒较高。光刻机是用于芯片制造的核心设备，目前核心技术处于垄断状态。国际上只有荷兰 ASML 公司可制造 EUV（极紫外）光刻机，售价超过 1 亿欧元；而技术水平稍低的 DUV（深紫外）光刻机，售价为 2000 万-5000 万美元。

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