日本加强对韩国半导体材料出口管控,是否会影响三星的5G布局?(12)
光刻胶被发明后,首先被运用于军事、国防设备中高性能集成电路、光学、传感、通讯器材等的加工制作。目前,按照应用领域分类,光刻胶主要包括印制电路板(PCB)光刻胶专用化学品(光引发剂和树脂)、液晶显示器(LCD)光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂和其他用途光刻胶四大类。由此可见,如手机通信芯片中光刻胶材料的应用不可或缺。
半导体行业有观点分析认为,受日本政府对韩国启动半导体材料出口管制影响,韩国三星电子的“非存储器”战略将受到影响。其原因在于,日本限制出口的3类材料之一的“光刻胶(Resist)”可能对三星投产最尖端设备产生影响。这关乎三星能否在今后的开发竞争中处于优势地位。
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