稀释SC1溶液中硅表面颗粒的去除( 二 )
在这些实验的测试样品中没有检测到铁、铜、锌 ， 基于这些发现 ， 在SC1步骤之后可能不需要金属去除步骤(例如SC2) ， 即使必须设计该金属去除步骤 ， 它也可以是极稀的(例如0.01重量% HCl) 。
【稀释SC1溶液中硅表面颗粒的去除】已经提出了使用兆频超声波能量来提高稀释SC1工艺中的粒子去除效率 ， 不同SC1浓度、颗粒大小和组成的测试结果 ， 结果清楚地表明 ， 即使在稀释到1∶1∶100和1∶10∶120的溶液中 ， 兆频超声波能量也增强了稀释SC1过程中的粒子去除过程 ， 当使用不同的颗粒尺寸(0.13、0.16和0.2 um)和组成(SiO2和SigN4)时 ， 获得了高的颗粒去除效率；实验还表明 ， 为了获得工艺稳定性和更长的镀液寿命 ， 需要浓度控制技术 ， 兆频超声波能量和稀释化学品的使用可以提供更清洁和更光滑的晶片表面(颗粒和金属) ， 更低的拥有成本和更环保的工艺 。
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