直逼1nm工艺！ASML下一代EUV光刻机延期
ASML公司前两天发布了财报 ， 全年净销售额140亿欧元 ， EUV光刻机出货31台 ， 带来了45亿欧元的营收 ， 单价差不多11.4亿欧元了 。 虽然业绩增长很亮眼 ， 但是ASML也有隐忧 ， 实际上EUV光刻机的出货不及预期的35台 ，而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用 ， 意味着要延期了 。
此前信息显示 ， ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样 ， 大规模量产是2024-2025年间 。
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ASML的EUV光刻机目前主要是NEX:3400B/C系列 ， NA数值孔径是0.33 ， 下一代EUV光刻机是NEX:5000系列 ， 可将NA提升到了0.55 ，意味着光刻机的分辨率提升了70% 。 （注：NA越高 ， 光刻机精度越高）
目前的EUV光刻机可以用于制造7nm到3nm工艺的芯片 ， 下代EUV光刻机则是针对3nm以下的节点 ， 2nm甚至未来的1nm工艺都要用到NA 0.55的EUV光刻机 。
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