发射器|(图文+视频)C4D野教程:RS渲染XP粒子制作水龙头喷烟雾( 四 )


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但是现在烟雾下落的速度又太慢了点 , 以至于都不能碰撞以后堆积起来 。
所以我这里又添加了一个重力 , 控制粒子下落的速度 , 我个人觉得这样会比较好控制点:

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现在的烟雾和水龙头是没有碰撞的 , 所以给水龙头也添加EFX碰撞标签 , 并且取消勾选solid 。
这时候你会发现在水龙头内部的粒子发射不出烟雾来 , 并且会有一定的距离:

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我们首先想到的是提高模拟的精度看能不能解决这个问题 , 所以我这里尝试把体素改到0.2 。
水龙头的内部确实有烟雾了 , 但是现在模拟会很慢 , 并且可以看下预估的缓存文件有10多个G:

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我觉得这个可能不是我最好的选择 , 所以我这里换了一种方式 , 首先我把体素尺寸改到了0.5 , 可以看到现在的缓存文件预估是700多M:

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新建一个体积略微大一点的立方体放在发射器的位置 , 其实相当于就是给烟雾碰撞更多一点的空间:

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再给它添加EFX碰撞标签取消勾选solid:

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同时回到之前的碰撞水龙头 , 我们把碰撞标签里重新勾选上solid , 这样烟雾内部就正常的发射出烟雾 , 并且可以和水龙头产生正常的碰撞了:

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内部的立方体别忘记也给一个EFX碰撞标签:

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另外我激活了upres , 体素尺寸同样也改为0.5 , 其他参数默认 , 这样会在原有的基础上再次增加烟雾的细节:

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基本这样就可以进行缓存了 , XP的EFX和TFD不一样 , 无论是RS还是OC渲染都需要导出VDB文件才行 。
所以缓存的时候EFX选择为VDB , 压缩缓存文件可以取消勾选 , 这样会提高一些缓存的速度 , 但是缓存文件的体积会有所增加:

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