新浪科技综合|SK海力士成功研发176层NAND闪存

来源:韩联社

新浪科技综合|SK海力士成功研发176层NAND闪存
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据韩联社报道 , SK海力士7日表示 , 近期成功研发出基于三层存储单元(TLC)的176层512Gb(千兆位)NAND闪存 。
SK海力士去年6月在世界上首次成功批量生产128层4D NAND闪存 。 此次仅次于美国存储半导体企业美光科技 , 美光11月宣布已批量出货176层NAND闪存 。
据SK海力士介绍 , 第三代4D NAND闪存达到业界最高水平 , 比上一代128层产品提高了35%以上生产率 , 增强了产品成本竞争力 。 另外 , 新产品的读取速度比上一代加快20% , 数据传输速度达到每秒1.6Gb , 提高了33% 。
SK海力士于上月向控制器企业提供了NAND样品 , 计划明年6月左右批量生产 , 并依次推出消费者级SSD、企业级SSD等产品 , 扩大各应用领域的市场 。
【新浪科技综合|SK海力士成功研发176层NAND闪存】据悉 , 三星电子也正在研发第七代V-NAND , 预计明年批量生产 。

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