日美光刻机大战，这位中国人帮助ASML打败日本，垄断全球市场( 九 )_光刻指利用光化学反应原理把事先制备在

ASML在GCA步进式光刻机的基础上进行升级，首先推出了步进式扫描投影光刻机，此前的扫描投影式光刻机在光刻时硅片处于静止状态，通过掩模的移动实现硅片不同区域的曝光。而GCA的自动化步进式光刻机实现了光刻过程中，掩模和硅片的同步移动，并且采用了缩小投影镜头，缩小比例达到 5： 1 ，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，将芯片的制程和生产效率提升了一个台阶，步进式扫描投影光刻机的出现开始让ASML慢慢崭露头角。

再推出两代光刻机后， 1994年ASML的市场份额只有18% ，但设计超前的8英寸PAS5500成为扭转时局的重要产品，另外1995年的IPO也给ASML插上了翅膀。率先采用PAS5500的台积电、三星和现代(后来的Hynix)很快决定几乎全部光刻改用ASML 。

ASML正在快速崛起，而这个时候尼康还沉浸在打败美国光刻机企业的快乐之中，两家企业最终在21世纪初正面交锋。

我们要知道，因为光学光刻是通过光的照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。