日美光刻机大战，这位中国人帮助ASML打败日本，垄断全球市场( 七 )_光刻指利用光化学反应原理把事先制备在

日本政府要求NEC将取得的技术和国内其他厂商分享。由此项技术的引进，日本的NEC、三菱、京都电气等乃开始进入半导体产业。由此日本半导体行业进入了高速发展阶段。

当时佳能和尼康就开始进入了光刻机领域，当时日本为了发展半导体，可以说举国之力，日本政府和日本企业共同出资投入了千亿来促进半导体产业的发展。

70 年代初，光刻机技术更多集中在如何保证十个甚至更多个掩膜版精准地套刻在一起。 Kasper 仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年， Cobilt 公司做出了自动生产线，但接触式机台后来被接近式机台所淘汰，因为掩膜和光刻胶多次碰到一起太容易污染了，所以后来投影式光刻系统取代了它。

1978 年， GCA 推出真正现代意义的自动化步进式光刻机 (Stepper) ，分辨率比投影式高 5 倍达到 1 微米。这个怪怪的名字来自于照相术语 Step and Repeat ，这台机器通俗点说把透过掩膜的大约一平方厘米的一束光照在晶圆上，曝光完一块挪个位置再刻下一块。但是因为生产效率不高，所以投影式光刻机仍然占据了主导地位。