阿斯麦 (ASML.US)的光刻机霸主之路( 十 )_：阿斯麦(ASML.US)的光刻机霸主之路来

ASML 与纳米光刻技术高级研究中心、塔塔钢铁和阿姆斯特丹 Vrije 大学的研究人员合作开发了基于无透镜显微镜的成像表面新技术。为了支持平版印刷业务，ASML 与卡尔蔡司公司和 Cadence 设计系统建立了密切而长期的合作关系。ASML 和世界著名的研究和创新中心 IMEC 展开合作，以加速采用 EUV 光刻技术进行大批量生产，并探索下一代高钠超视距光刻技术的潜力，以实现更小的纳米级器件的印刷。ASML 的合作伙伴还包括加州劳伦斯利弗莫尔国家实验室、纽约州立大学理工学院、中国上海集成电路研发中心、EUV LCC 等。

开放式创新在 ASML 的崛起中发挥了巨大作用，开放式创新促成 ASML的两次转折，由此 ASML 建立起技术领先优势，促成 EUV 领域技术垄断局面。其中与台积电成功研发“浸没式”光刻机、加入 EUV LLC 组织共同研发 EUV 光刻机，是光刻机历史上的两次突破，也是 ASML 历史上的两次重要转折，第一次使得 ASML 市场占有率位居全球第一，第二次使得 ASML 成为 EUV 领域的独家垄断者。