阿斯麦 (ASML.US)的光刻机霸主之路( 八 )_：阿斯麦(ASML.US)的光刻机霸主之路来

2. 战略并购：构建完整上游供应链，快速攫取技术领先优势

ASML 一方面通过客户入股获得研发资金，降低研发风险；另一方面不断通过战略并购，快速扩大市场份额、打通上游供应链、攫取技术领先优势、扩展业务领域。通过收购光源大厂 Cymer、电子束检测设备商 HMI 以及入股镜头龙头卡尔蔡司等，ASML 构建起完整的上游供应链，并且快速获得了光源、镜头等光刻机零件领先的技术，占据技术高地，进一步促进公司技术的创新。

2001 年，ASML 收购美国光刻机巨头硅谷集团（SVGL），快速获得反射技术，市场份额快速提升。ASML 尚未掌握新一代 157nm 激光需要配臵的反折射镜头技术，硅谷集团拥有较成熟的 157nm光学技术，于是 ASML 通过将硅谷集团收入囊中获取了该技术。

2007 年，ASML 收购了美国 Brion 公司，这是一家专门从事计算光刻集成电路的公司，成为 ASML 整体光刻产品战略的基石。

2013年，ASML 收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，加速了EUV光源技术的发展，为光源技术提供了保障。Cymer 拥有世界领先的光源技术，2000 年推出第一款专为193nm波长的光刻应用而设计的 ArF 光源；2001 年推出业界首款光刻光源专用电子诊断和性能监控软件 Cymer OnLine；2005 年推出业内首款 193nm ArF 6kHz 光源 XLA 300，之后 Cymer 的多款产品也均是行业首发。2009年，Cymer 提供了首个生产就绪的激光产生的等离子EUV 源。ASML 对 Cymer 的收购，加速了 EUV 半导体光刻技术的发展。