阿斯麦 (ASML.US)的光刻机霸主之路(12)
1997 年,ASML 加入 EUV LLC,能够享受 EUV LLC 的研究成果大大加快了其 EUV 的研发 速度。2005 年前后,摩尔定律的延续再度陷入停滞。极紫外光刻技术虽被认为是制程突破 10nm的关键,但技术难度和投资金额极高,尼康和佳能几近放弃。在此情况下,ASML 仍坚持投入研发,并积极向外寻求研发支持。在政府经费方面,阿斯麦从欧盟第六框架研发计 划中获得 2325 万欧元研发资助;在合作伙伴方面,ASML 提出“客户联合投资专案”,用股权向英特尔、台积电、三星等客户筹得 53 亿欧元研发资金,并向股东提供设备的优先使用 权;在合作研发方面,联合3 所大学、10 个研究所、15 个欧洲公司共同开展“More Moore” 项目,大大推进了EUV技术的研发进程。随后2010年,ASML推出第一台EUV光刻机NXE:3100。2013 年收购美国准分子激光源企业 Cymer,进一步打通了极紫外光刻机的生产产业 链,并于同年推出第二款 EUV 光刻机 NXE:3300B。2017 年,ASML 推出第三款 EUV 光 刻机NXE:3400B。自此,ASML 成为全球唯一一家能够设计和制造 EUV 光刻机设备的厂 商,成为超高端市场的独家垄断者。
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