阿斯麦 (ASML.US)的光刻机霸主之路(11)_：阿斯麦(ASML.US)的光刻机霸主之路来

转折一：联合台积电，成功研制浸入式光刻机，一举拿下 70 %市场份额

直至上世纪 90 年代，光刻机领域一直以干式微影技术为主导，此时干式微影技术遇到了瓶颈，尼康等众多光刻机厂家、学者投入大量精力以及巨额费用研究干式微影技术，一直无法将光刻光源从 193nm波长缩短到 157nm。担任台积电研发副总经理的林本坚提出可以把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，由于水的折射率大约为1.4，那么波长可缩短为132nm。其他厂商基本都拒绝合作，此时 ASML 决定和台积电合作研究“浸没式”方解决方案。

光刻机市场是一个技术为王的市场，技术先进者才能存活，如果技术落后，设备将无人购买。2003 年，ASML 和台积电共同研发成功全球第一台浸没式微影机，一时成为市场上最为先进的产品，获得英特尔、台积电量大客户，市场份额快速提升；2009 年 ASML 的净销售收入已达到 22.90 亿美元，据芯思想研究院统计，其市场份额已达 70%左右，跃居世界第一。

转折二：加入 EUV LLC，成功推出 EUV 光刻机，成为超高端市场的独家垄断者

1997年Intel和美国能源部共同发起成立EUV LLC，汇聚了美国顶级的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，集中了数百位顶尖科学家，共同研究 EUV 光刻技术。英特尔邀请 ASML 和尼康一起加入该组织，最初美国政府担心最前沿的技术落入外国公司手中，反对 ASML 和尼康加入，最后 ASML 成功加入 EUV LLC，能够享受其基础研究成果，尼康却没能加入。