日本加强对韩国半导体材料出口管控，是否会影响三星的5G布局？(16)_：日本加强对韩国半导体材料出口管控

据悉，三星于2018年10月宣布生产7nm工艺，该工艺是三星首个采用EUV技术的工艺节点，基于7nm工艺的芯片已于今年年初实现了量产。此前，三星预计于今年6月推出的Exynos 9825处理器就是采用了7nm EUV工艺制造。

众所周知，芯片是电子产品所必不可少的组件，芯片制造商要想成功地制造出芯片来，必须用到光刻机。对芯片制造商来说，光刻机就是核心的生产设备。光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40%~60%，是半导体制造中最核心的工艺。

以半导体光刻胶为例，在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光(改变光刻胶溶解度)、显影(利用显影液溶解改性后光刻胶的可溶部分)与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

目前，全球仅有极少数的光刻机设备厂商能够研制出高端光刻机，而荷兰的 ASML则拥有全球晶圆厂光刻机设备高达8成的市场份额，在干式曝光机、浸润式光刻机， EUV （极紫外线光刻机）的市场几乎处于独霸地位。

日本加强对韩国半导体材料出口管控，是否会影响三星的5G布局？(16)