被台积电“欺负”惨了,三星砸1160亿美元只为10年后雪耻( 十 )

三星韩国华城工厂

有数据显示 , ASML的EUV光刻机能量转化效率只有0.02% , 因此使用输出功率250瓦的EUV光刻机 , 每台每天需要消耗3万度电 , 加上散热等需要的电力 , 仅耗电量就是DUV光刻工艺的10倍以上 。

另外 , 掌握EUV光刻工艺需要大量练习 , 有媒体报道 , 仅2018年 , 台积电每月在EUV光刻机上就要报废3-4万个硅晶圆 。

台积电也不会坐视三星壮大 , 在三星宣布1160亿美元的投资计划后 , 台积电随即宣布将今年年度投资支出从110亿美元调整到140-150亿美元 , 其中8成支出投资到7nm以下的先进工艺制程中 。

同时 , 台积电还宣布在台湾新竹新建3nm技术研究中心 , 预计2021年开放 , 2022年分批量生产 , 并打算研发2nm技术……

可见 , 半导体工业的发展 , 每一步都是真金白银堆出来的 。

放眼全球 , 目前只有四家企业进入了EUV光刻机领域 , 除了台积电、三星和英特尔 , 最后的一家企业是中芯国际 , 他们于2018年向ASML购买了一台EUV光刻机 , 价值1.2亿美元 。

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