【快科技2018|Intel 5nm工艺曝光 效能直追台积电2nm】在先进半导体工艺上 ， Intel目前最新的是10nm工艺 ， 已经落后于台积电、三星 。 新上任的CEO基辛格决心用几年时间重新超越 ， 未来几年将会投入200亿美元建设先进工艺晶圆厂 。
Intel下一个目标是7nm工艺 ， 这几天的台北电脑展上 ， 基辛格称司已经完成7nm Meteor Lake芯片的“Tape-in” 。 Tape-in在Tape-Out（流片）前 ， 大概是IP模块完成设计验证阶段 。
Meteor Lake（流星湖）是Intel第一代7nm客户端处理器 ， 计划2023年开始出货 ， 7nm数据中心处理器Granite Rapids也会在同年交付 。
再往下就是5nm工艺了 ， Intel官方是没有给出什么明确信息 ， 不过有投行分析师透露了5nm工艺的水平 ， 晶体管密度大约在400MTr/mm2 ， 也就是每平方毫米4亿晶体管 ， 差不多是Intel 10nm工艺的4倍了 。
对比其他厂商呢？专家指出台积电的2nm工艺的晶体管密度也就是500MTr/mm2 ， 5亿晶体管每平方毫米 ， 双方的密度差距只有20%左右 ， Intel 5nm效能与台积电2nm差不多 。
但是台积电的优势是在成本上 ， 而且量产的时间也会更早 ， 毕竟2nm工厂已经取得土地 ， Intel这边7nm工厂还在建设中 ， 5nm量产还早 。
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