揭秘芯片制造关键一环，百亿美元市场的光刻胶产业(20)_光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料

由于光刻胶产品的技术要求较高，中国光刻胶市场基本由外资企业占据，国内企业市场份额不足 40% ，高分辨率的 KrF 和 ArF 光刻胶，其核心技术基本被日本和美国企业所垄断，产品也基本出自日本和美国公司，包括陶氏化学、 JSR 株式会社、信越化学、东京应化工业、 Fujifilm ，以及韩国东进等企业。

随着需求的增加和技术的进步，中国光刻胶产量也在逐年增加。据统计资料显示， 2017 年中国光刻胶行业产量达到 7.56 万吨，较 2016 年增加 0.29 万吨，其中，中国本土光刻胶产量为 4.41 万吨，与 7.99 万吨的需求量差异较大，说明我国供给能力还需提升。得益于我国平面显示和半导体产业的发展，预计我国光刻胶市场需求。

▲中国光刻胶产量（万吨）

▲中国本土光刻胶产量（万吨）

▲中国光刻胶需求量（万吨）