3D闪存将走向何方?( 二 )
比方说,通过融合Samsung Electronics的把Word Line(字线)的堆叠数做到了64层(Intel和Micron Technology通过合作也做到了64层)的技术、1个存储单元上存储了4bit数据的QLC(Quadruple-Level Cell)技术,获得了1Tbit的存储容量。
此外,东芝Memory&Western Digital合作,融合字线的堆叠数做到了96层的技术和QLC技术,开发了达到1.33Tbit这一巨大容量的硅芯片。此处的1.33Tbit,在当今存储半导体业界属于全球最高值!
当前也正在开发Word Line(字线)堆叠数为128的3D NAND 闪存。SK Hynix在2019年6月公布,要通过利用128层的制造技术、每个存储单元上有3bit数据的TLC(Triple-Level Cell)技术,开发单个硅芯片的存储容量为1Tbit的3D NAND闪存。这是TLC技术方面最大的存储容量!
存储容量在过去20年扩到了1,000倍
回望过去,以往的“平面型NAND(Planer NAND,2D NAND)”闪存主要通过微缩技术使存储容量扩大到128Gbit,多值存储方式采用的是MLC(2bit/cell)技术和TLC技术。
3D NAND 闪存技术的实用化以128Gbit为开端,256Gbit以上的存储容量被3D NAND“独霸”!多值存储方式采用的是TLC技术,后来QLC技术也被采用。
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