3D闪存将走向何方?( 四 )
其一,至此,牵引存储半导体大容量化的字线层数,在不久的将来其发展会出现“钝化”,或者说其发展会达到极限。其二,QLC方式下的多值存储技术是否会达到极限?存储单元的Bit数是否会出现无法再增加的情况?
Samsung公开谈到300多层的3D NAND闪存
2019年8月6日,大型NAND厂家相继公布了消除以上担忧的Road Map(产品路线图)和技术要素。
今年8月6日,最大的NAND厂商Samsung Electronics公布开始量产SSD,此款SSD搭载了通过单堆栈(Single Stack)形成了136层Memory Through Hole(存储过孔)的256Gbit 3D NAND闪存。所谓136层的Memory Through Hole(存储过孔),在层数方面是历史最高值。除去Source Line、Dummy Word Line,存储单元(Memory Cell Storing)的字线层数为110-120。
此次发布中,应该关注的是他们提到的通过堆叠3个136层的单堆栈(Single Stack),最终可以堆叠300多层的的存储单元(Memory Cell)。最大厂商Samsung表示了如此强势的观点,着实罕见。
虽然还未明确300层的开发时间,不过应该已经着手研发了。
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