1)含氟化合物(HF、NH4F、NH4HF2)单组分情况下 ， HF的GLAS刻蚀速度较快 ， 但刻蚀后GLAS表面状态存在很多问题 ， NH4F和NH4HF2的刻蚀速度非常慢 。
2)氟化化合物中添加硫酸或硝酸提高了蚀刻速度 ， 特别是NH4HF2中添加硫酸的情况下 ， 蚀刻速度大大提高 ， 蚀刻后的玻璃表面状态也相对良好 。
3)在蚀刻溶液中加入少量阴离子系表面活性剂 ， 可防止蚀刻反应过程中产生的沉淀物附着在玻璃表面产生的污渍等问题 ， 并能保持非常干净的表面状态 。
4)使用沉积水流方式的先导装置 ， 640μm(150 × 100)μm)厚的无碱玻璃和500米(370 × 470 μm)厚的纯碱玻璃 ， 分别可以薄判为45μm和100μm以下的厚度 。
【玻璃薄化蚀刻】
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