企业|韩国公司正在积极寻求改进极紫外光刻EUV技术，申请布局专利_布局|芯片|半导体|卡尔蔡司|超

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随着韩国积极布局EUV专利，台积电面临新的威胁。
众所周知，台积电和三星在为高通、联发科甚至苹果等公司生产处理器方面总是竞争。两者都已经在使用5纳米技术，这引发了所有主要半导体制造商的兴趣。
据最新数据显示，韩国企业又申请了许多有关EUV（极紫外光刻）光刻技术的专利。从专利申请看企业在EUV(极紫外光)光刻技术方面显然取得了较大的进步。
UVV是为制造先进半导体而开发的，在内存芯片和处理器的生产中极为重要。 EUV技术利用超短波长的紫外线在硅上投射出芯片工厂。这样就可以开发出更小、更高效的晶体管。
尽管韩国专利申请量的激增听起来很简单，但这表明台积电可能会陷入困境。因为韩国公司正在改进EUV技术，并且可以利用这些专利来限制台湾制造商。
BusinessKorea最近的一篇报道曾指出，韩国企业正在加强对EUV技术的专利申请。对于不知道的人来说， EUV是一种先进的半导体制造工艺，用于生产逻辑芯片和存储器。报告发现，韩国EUV相关专利申请数量稳步上升，已经首次超过国外企业。
换句话说，对于计划在未来进一步开发EUV技术和产品的韩国企业来说，这些专利申请很快就会成为一个有力的工具。报告还发现，仅六家大公司的专利申请量就占到了专利申请总量的59%以上。包括卡尔蔡司（18%）、三星电子（15%）、ASML（11%）、S&S Tech（8%）、台积电（6%）以及， SK海力士（1%）。
此外，对工艺技术领域的专利分析显示，三星占39%的专利申请，台积电占15% 。这意味着，两家公司合计持有的专利申请量超过了一半。虽然，其他韩国企业的专利组合也在增长。

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【企业|韩国公司正在积极寻求改进极紫外光刻EUV技术，申请布局专利】目前，我们还不知道这场专利竞赛对半导体市场的真正影响。事实上，新专利技术的发展是缓慢的，可能需要数年时间才能在现实世界中获得具体成果。

企业|韩国公司正在积极寻求改进极紫外光刻EUV技术，申请布局专利

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